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¿Qué significa objetivo de pulverización catódica de alta gama?

El objetivo de pulverización catódica de alta gama es un material con alta pureza, alta confiabilidad, alta uniformidad de composición y alta planitud de superficie. Se utiliza principalmente en procesos de preparación de películas delgadas en campos de alta tecnología. El desarrollo de tecnología moderna de preparación de materiales de película delgada ofrece buenas perspectivas y mercados para la preparación de objetivos de pulverización catódica de alta gama.

El proceso de preparación de objetivos de pulverización catódica de alta gama generalmente adopta el método de prensado en caliente al vacío o el método de deposición de vapor, y el proceso de producción es automatizado y continuo. En la actualidad, los objetivos de pulverización catódica de aleaciones y metales de alta pureza se han utilizado ampliamente en células solares, recubrimientos, semiconductores y otros campos, y desempeñan un papel vital en estos campos.

Con el rápido desarrollo de la ciencia y la tecnología en nuestro país y la creciente demanda de objetivos de pulverización catódica de alta gama en el mercado nacional, los fabricantes nacionales de objetivos de pulverización catódica de alta gama también han surgido rápidamente. Estas empresas están comprometidas a mejorar continuamente su nivel técnico, dominar la última tecnología de producción y brindar a los clientes las mejores soluciones en términos de calidad del producto y servicio, contribuyendo así al desarrollo exitoso de la industria de alta tecnología de China.