Introducción al proceso de chapado en oro
El uso, flujo del proceso, principios, reactivos, tipos de equipos de galvanoplastia, control de parámetros del proceso y desempeño del enchapado en oro.
Principio del baño de oro
Los ánodos chapados en oro generalmente están hechos de malla de platino y malla de titanio.
Cuando se aplica energía entre la malla de platino-titanio (ánodo) y la oblea de silicio (cátodo), la solución generará una corriente eléctrica y formará un campo eléctrico. El ánodo libera electrones de la reacción de oxidación y el cátodo recibe electrones de la reacción de reducción.
Los iones de oro complejos cerca del cátodo se combinan con los electrones y se depositan en la superficie de la oblea de silicio en forma de átomos de oro. Bajo la acción de un campo eléctrico externo, los iones de aleación complejos en la solución de revestimiento se mueven hacia el cátodo para complementar el consumo de concentración cerca del cátodo. Este es un diagrama esquemático de revestimiento de copa horizontal y la Figura 2 es un diagrama esquemático de bastidor vertical. enchapado.
El objetivo principal de la galvanoplastia es depositar oro denso y uniforme sobre la oblea de silicio sin defectos como agujeros y huecos.