Red de Respuestas Legales - Consulta de marcas - Patente de Wei Yu1. Un método de deposición a baja temperatura y alta velocidad de películas delgadas de nitruro de silicio amorfo hidrogenado, patente de invención nacional 2. Un método para preparar películas delgadas de carburo de nanosilicio hidrogenado a baja temperatura, Patente de Invención Nacional 3. Dispositivo de deposición química de vapor mejorado con plasma de onda espiral, patente de invención nacional.

Patente de Wei Yu1. Un método de deposición a baja temperatura y alta velocidad de películas delgadas de nitruro de silicio amorfo hidrogenado, patente de invención nacional 2. Un método para preparar películas delgadas de carburo de nanosilicio hidrogenado a baja temperatura, Patente de Invención Nacional 3. Dispositivo de deposición química de vapor mejorado con plasma de onda espiral, patente de invención nacional.