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Derecho de patentes - Modo de ruta de blindaje Guidewire DSAEl método consiste en proyectar el patrón de la máscara sobre la superficie de la muestra a través de una proyección óptica para la transferencia del patrón. En la guía DSA, el haz de electrones está controlado por un alineador de máscara electrónico y el patrón se escribe directamente en la superficie de la muestra. Esta tecnología tiene las ventajas de alta resolución, alta precisión y alta flexibilidad, y puede realizar micro-nanoestructuras muy complejas. La litografía de haz de escritura directa y la litografía de máscara son dos tecnologías de micronanoprocesamiento comúnmente utilizadas.
Modo de ruta de blindaje Guidewire DSAEl método consiste en proyectar el patrón de la máscara sobre la superficie de la muestra a través de una proyección óptica para la transferencia del patrón. En la guía DSA, el haz de electrones está controlado por un alineador de máscara electrónico y el patrón se escribe directamente en la superficie de la muestra. Esta tecnología tiene las ventajas de alta resolución, alta precisión y alta flexibilidad, y puede realizar micro-nanoestructuras muy complejas. La litografía de haz de escritura directa y la litografía de máscara son dos tecnologías de micronanoprocesamiento comúnmente utilizadas.