¿Qué significa ABM?
Abreviatura: ABM (Modo Equilibrado Asíncrono)
Modo Equilibrado Asíncrono
Clasificación: IP y Multimedia
Explicación: Mediante un método de comunicación de datos controlado por control de enlace de datos de alto nivel (HDLC). Asíncrono significa que la transmisión de datos entre las dos estaciones no tiene un reloj común, y balanceado significa que la comunicación entre pares entre las dos estaciones elimina el "desequilibrio" de tener una estación maestra y una estación esclava en ambos extremos de el enlace de datos.
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ABM fue fundada en 1986, con sede en San José, Silicon Valley, EE. UU. Se dedica principalmente a máquinas de exposición para alineación de máscaras (máquinas de litografía), sistemas de exposición individuales, medidores/sondas de intensidad luminosa. Los principales mercados de la empresa son Estados Unidos y Asia.
A finales de octubre, 38 de junio de 2005, ABM había vendido más de 300 máquinas de exposición (máquinas de litografía) y más de 50 sistemas de exposición independientes en todo el mundo. Los clientes más destacados son la NASA, Intel y Shipley Corporation, que fabrica fotoprotectores. Las máquinas de litografía ABM tienen el mayor volumen de ventas en la provincia de Taiwán, y más de la mitad de las universidades, institutos de investigación y algunas fábricas utilizan máquinas de litografía ABM. La característica principal de la máquina de litografía ABM es que es muy rentable.
ABM tiene su sede en Silicon Valley, EE. UU., y su centro de ventas, servicio y mantenimiento de Asia-Pacífico está ubicado en Hong Kong, China. La empresa tiene agencias en China, Corea del Sur, Japón, India, Singapur, Malasia y la provincia asiática de Taiwán. W.J.H Company es el agente exclusivo de ABM en China.
Campos de aplicación
Embalaje electrónico (oblea de choque y CSP a nivel de oblea)
Equipos optoelectrónicos (diodos emisores de luz, diodos láser, matrices de guías de ondas) p>
Detectores (CCD, infrarrojo cercano/lejano, rayos X en tiempo real)
Pantallas de dispositivos MEMS y MOEMS (LCD, LCD de polímero, diodo emisor de luz orgánico)
La capa fotosensible aplicable es adecuada para varios fotorresistentes y películas secas, BCB, poliimida, líneas SU-8, G, H, I y exposición ultravioleta profunda.
Materiales semiconductores básicos adecuados
Silicio, silicio germanio, SOI, SOS, GaAs, fosfuro de indio, antimoniuro de indio, CZT, MCT, niobato de litio, niobato de litio, vidrio
Sustrato rígido flexible (FR-4, BT-resina epoxi), Kapton, metal